Диэлектрические пленки для ИС

Диэлектрические пленки для ИС

Bibliografiske detaljer
Hovedforfatter:	Саркаров Т. Э.
Andre forfattere:	Шангереева Б. А.
Summary:	В монографии рассматриваются вопросы получения диэлектрических пленок в планарной технологии изготовления ИС, физико-химических свойств тонких диэлектрических пленок для ИС, распределения заряда в тонких диэлектрических пленках и влияние излучений на МДП-структуры. Данная работа представляет интерес для студентов старших курсов вузов соответствующего профиля, аспирантов и специалистов в области проектирования технологии изготовления и применения ИС. Книга из коллекции ДГТУ - Химия
Udgivet:	Махачкала, ДГТУ, 2021
Fag:	тонкие диэлектрические пленки технология получения термическое окисление модель термического окисления кинетика окисления электролитическое анодирование плазменное анодирование осаждение sio2 плазмохимическое осаждение разработка процесса осаждения испарение в вакууме реактивное распыление методы получения пленок оксид алюминия al2o3 термическое испарение в вакууме ионно плазменное распыление электролитическое анодное окисление разложение элементоорганических соединений химическое осаждение из газовой фазы низкотемпературное осаждение пленок al2o3 формирование тонких диэлектрических пленок термодинамические расчеты способ защиты поверхности технология изготовления транзисторных структур способ защиты осаждения из газовой фазы получение защитных пленок методы получения тонких пленок способ получения пленок оксида циркония способ нанесения стекла способ защиты кристаллов способ получения защитных пленок на основе гафния метод защиты поверхности способ формирования диэлектрической пленки способ защиты структур способ защиты кремниевых структур способ осаждения тонких пленок методы получения пленок нитрида кремния технология газофазного осаждения методы получения легированных диэлектрических пленок анодное окисление осаждение из растворов методы газотранспортных реакций пиролиз металлоорганических соединений гидридный метод сравнение методов получения легированных пленок физико-химические свойства тонких диэлектрических пленок электропроводность пленки двуокиси кремния электропроводность нитрида кремния свойства нитрида кремния собственное поглощение света в нитриде кремния свойства двухслойных диэлектрических пленок зависимость свойств защитных пленок влияние химической обработки свойства моп структур влияние легирования хлором свойства диэлектрических пленок залечивание пор в диэлектрических пленках влияние скорости охлаждения методы присоединения кристаллов способ обработки кварцевой оснастки влияние структурных дефектов распределение заряда в тонких диэлектрических пленках зарядовая нестабильность стационарное распределение заряда влияние температуры и внешнего поля разряд ловушек по механизму пула френкеля разряд ловушек по механизму прыжковой проводимости зарядовые характеристики диэлектрических слоев влияние излучений на мдп структуры воздействие ионизирующей радиации влияние внедрения ионов влияние ионного легирования влияние температуры технологического отжига улучшение надежности моп структур модель накопления заряда в моп структуре
Online adgang:	https://e.lanbook.com/book/404174 https://e.lanbook.com/img/cover/book/404174.jpg
Format:	Electronisk Bog

Internet

https://e.lanbook.com/book/404174
https://e.lanbook.com/img/cover/book/404174.jpg