Физические основы электронно-ионно-лучевых и плазменных технологий, учебное пособие для аспирантов направления 11.06.01

書誌詳細
第一著者: Золотухин Д. Б.
その他の著者: Климов А. С., Тюньков А. В., Окс Е. М., Юшков Ю. Г.
要約:Рассматриваются основные физические процессы взаимодействия ускоренных частиц и плазмы с веществом, принципы работы пучкового и плазменного технологического оборудования, применение электронно-ионно-плазменных технологий в промышленности. Для аспирантов направления подготовки 11.06.01, а также студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся в области физической электроники, ионно-плазменных и лучевых технологий, вакуумной и плазменной электроники, микро- и наноэлектроники, физики твердого тела, материаловедения. Учебное пособие может быть полезным для специалистов и инженеров, сфера деятельности которых касается взаимодействия плазмы и ионных пучков с поверхностью, методов обработки материалов потоками заряженных частиц.
Книга из коллекции ТУСУР - Физика
出版事項: Москва, ТУСУР, 2020
主題:
オンライン・アクセス:https://e.lanbook.com/book/313868
https://e.lanbook.com/img/cover/book/313868.jpg
フォーマット: 電子媒体 図書