Свойства и применение диэлектрических тонких пленок в технологиях микроэлектроники, учебное пособие
| Glavni autor: | |
|---|---|
| Sažetak: | Утверждено Редакционно-издательским советом университета в качестве учебного пособия Показаны взаимосвязи параметров процессов химического осаждения из газовой фазы (ХОГФ) и физико-химических свойств тонких пленок (ТП), систематизированы и обобщены основные особенности ТП материалов на основе кремния. Рассмотрены вопросы методологии и технологии создания тонких пленок (ТП) неорганических материалов нитрида кремния, диоксида кремния, силикатных стекол при ХОГФ для использования в технологиях микро- и наноэлектроники с проектно-технологическими нормами более 150 нм. Рассматривается алгоритм анализа патентов по тематике ТП для технологий ИМС. Пособие создано на основе исследовательской и публикационной активности автора в течение 40 лет. Материал пособия может быть рекомендован для обучения бакалавров и магистрантов по направлениям 11.03.04 и 11.04.04 «Электроника и наноэлектроника», 28.03.01 и 28.04.01 «Нанотехнологии и микросистемная техника» в рамках семинаров по специальностям и по дисциплинам, связанным с преподаванием физико-химических основ технологических процессов изделий микроэлектроники, микросистемной техники, наноэлектроники. Рекомендуетсядля магистрантов и аспирантов по специальности 11.06.01 «Электроника, радиотехника и системы связи», а также для технологов производства ИМС, исследователей в области нанотехнологий. Книга из коллекции НГТУ - Инженерно-технические науки |
| Izdano: |
Новосибирск, НГТУ, 2021
|
| Teme: | |
| Online pristup: | https://e.lanbook.com/book/216209 https://e.lanbook.com/img/cover/book/216209.jpg |
| Format: | Elektronički Knjiga |
