Градиентная эпитаксия для получения микро и наноструктур твердых растворов АIIIВV через тонкую газовую зону, монография

التفاصيل البيبلوغرافية
المؤلف الرئيسي: Сысоев И. А.
مؤلفون آخرون: Лунин Л. С.
الملخص:В монографии представлены физико-химические основы градиентной эпитаксии (ГЭ) в газовой фазе через тонкую зону применительно к многокомпонентным соединениям АIIIВV . Приводится методика и алгоритм расчета по закономерностям роста эпитаксиальных слоев для многокомпонентных твердых растворов соединений АIIIВV . Обсуждаются возможности получения различных микро- и наноструктур соединений АIIIВV с помощью ГЭ через газовую зону. Рассмотрено влияние различных технологических параметров (температура, температурный градиент, толщина зазора между источником и подложкой и т. д.) на свойства получаемых гетероструктур. Монография адресована магистрам, асптирантам и преподавателям, а также исследователям, работающими в области технологии полупроводниковых материалов соединений А3В5 с микро- и наноструктурой.
Книга из коллекции СКФУ - Физика
منشور في: Ставрополь, СКФУ, 2015
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://e.lanbook.com/book/155169
https://e.lanbook.com/img/cover/book/155169.jpg
التنسيق: الكتروني كتاب