Основы радиационных технологий . Расчет режимов ионной имплантации и профиля распределения имплантированных атомов примеси на примере изготовления кремниевых солнечных элементов n+ –p–p+ (p+–n–n+)- типа методические указания

Bibliographic Details
Main Author:	Полисан А. А.
Other Authors:	Астахов В. П.
Summary:	Рекомендовано редакционно издательским советом института В методических указаниях рассматриваются принципы расчета режимов ионной имплантации при формировании структур n+–p–p+(p+–n–n+)-типа и профилей распределения имплантированной примеси. Излагается методика расчета в программе Math Cad 2001. Методические указания предназначены для студентов, обучающихся по специальностям 150601 «Материаловедение и технология новых материалов» и 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника». Книга из коллекции МИСИС - Физика
Published:	Москва, МИСИС, 2007
Online Access:	https://e.lanbook.com/book/117212 https://e.lanbook.com/img/cover/book/117212.jpg
Format:	Electronic Book

Internet