• English
    • Deutsch
    • Español
    • Français
    • Italiano
    • 日本語
    • Nederlands
    • Português
    • Português (Brasil)
    • 中文(简体)
    • 中文(繁體)
    • Türkçe
    • עברית
    • Gaeilge
    • Cymraeg
    • Ελληνικά
    • Català
    • Euskara
    • Русский
    • Čeština
    • Suomi
    • Svenska
    • polski
    • Dansk
    • slovenščina
    • اللغة العربية
    • বাংলা
    • Galego
    • Tiếng Việt
    • Hrvatski
    • हिंदी
    • Հայերէն
    • Українська
Avançada
  • Ионное травление микроструктур...
  • Citar
  • Enviar aquest missatge de text
  • Enviar per correu electrònic aquest
  • Imprimir
  • Exportar registre
    • Exportar a RefWorks
    • Exportar a EndNoteWeb
    • Exportar a EndNote
  • Enllaç permanent
Export terminé — 
Ионное травление микроструктур

Ионное травление микроструктур

Dades bibliogràfiques
Autor principal: Данилин Б. С. Борис Степанович
Altres autors: Киреев В. Ю. Валерий Юрьевич
Idioma:rus
Publicat: Москва, Радио, 1979
Col·lecció:Массовая библиотека инженера "Электроника" вып. 21
Matèries:
микроэлектронные схемы
интегральные схемы
производство
микроструктуры
газы
ионное травление
откачка
системы
дефекты
Format: Llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=95563
  • Fons
  • Descripció
  • Ítems similars
  • Visualització del personal

Ítems similars

  • Плазмохимическое и ионно-химическое травление микроструктур
    per: Киреев В. Ю. Валерий Юрьевич
    Publicat: (Москва, Радио и связь, 1983)
  • Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве
    per: Быстров Ю. А. Юрий Александрович
    Publicat: (Москва, Радио и связь, 1988)
  • Плазменная технология в производстве СБИС: пер. с англ.
    Publicat: (Москва, Мир, 1987)
  • Ионное легирование полупроводников (Кремний и германий): пер. с англ.
    per: Мейер Дж. Джеймс
    Publicat: (Москва, Мир, 1973)
  • Травление углеродных покрытий в плазме водорода; Водород. Технологии. Будущее
    Publicat: (2021)