Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники

Bibliographic Details
Main Author: Достанко А. П.
Other Authors: Аваков С. М., Агеев О. А., Батура М. П.
Summary:Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности под ложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокоча стотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур. Предназначена для инженерно-технических работников предприятий электронной и других отраслей промышленности, специалистов научно-исследовательских институтов, аспирантов, магистрантов и студентов старших курсов технических вузов.
Книга из коллекции Белорусская наука - Инженерно-технические науки
Published: Минск, Белорусская наука, 2016
Subjects:
Online Access:https://e.lanbook.com/book/90482
https://e.lanbook.com/img/cover/book/90482.jpg
Format: Electronic Book

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 i 4500
001 90482
010 |a 978-985-08-1993-2 
100 |a 20250516d2016 k y0rusy01020304ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y z 000zy 
106 |a z 
200 1 |a Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники  |b Электронный ресурс  |f Достанко А. П.,Аваков С. М.,Агеев О. А.,Батура М. П.  |g Бордусов С.В., Голосов Д.А., Джуплин В.Н., Завадский С.М., Клим О.В., Ланин В.Л., Мадвейко С.И., Мельников С.Н., Петухов И.Б., Ретюхин Г.Е., Русецкий А.М., Титко Д.С., Томаль В.С., Трапашко Г.А., Чередниченко Д.И., Школык С.Б. 
210 |a Минск  |b Минск  |c Белорусская наука  |d 2016 
215 |a 251 с. 
330 |a Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности под ложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокоча стотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур. Предназначена для инженерно-технических работников предприятий электронной и других отраслей промышленности, специалистов научно-исследовательских институтов, аспирантов, магистрантов и студентов старших курсов технических вузов. 
333 |a Книга из коллекции Белорусская наука - Инженерно-технические науки 
610 0 |a удаление загрязнений с микропрофильных поверхностей 
610 0 |a автоматизированные технологические комплексы 
610 0 |a ультразвуковые технологические системы 
610 0 |a оптико-электронных изделий 
610 0 |a микр-рорельефных поверхностей 
610 0 |a конструктивные особенности свч-разрядных систем 
700 1 |a Достанко  |b А. П. 
701 1 |a Аваков  |b С. М. 
701 1 |a Агеев  |b О. А. 
701 1 |a Батура  |b М. П. 
801 1 |a RU  |b Издательство Лань  |c 20250516  |g RCR 
856 4 |u https://e.lanbook.com/book/90482 
856 4 1 |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/90482.jpg 
953 |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/90482.jpg