Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций, учебное пособие для вузов

Podrobná bibliografie
Hlavní autor:	Ратушный В. И.
Další autoři:	Ермолаева Н. В., Смолин А. Ю.
Shrnutí:	Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, дальнейшие перспективы развития и применения. Большое внимание уделено используемому технологическому оборудованию и физическим процессам, лежащим в основе каждого метода, а также методам жидкофазной эпитаксии и получению многокомпонентных твердых растворов соединений A III B V . Пособие составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплинам «Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций», «Технологии материалов электронной техники». Предназначено для организации самостоятельной работы студентов очной формы обучения по направлению подготовки 210100 – «Электроника и наноэлектроника», профиль подготовки «Микроэлектроника и твердотельная электроника», а также для аспирантов, научных сотрудников и инженеров-технологов, специализирующихся в области технологии материалов электронной техники. Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки
Vydáno:	Москва, НИЯУ МИФИ, 2012
Témata:	эпитаксиальные гетероструктуры методы получения эпитаксиальная технология полупроводниковые материалы механизмы эпитаксиального роста тонкие пленки начальные стадии роста образование кристаллических зародышей газовая фаза химические методы эпитаксия из газообразной фазы диссоциация и восстановление легирование дефектообразование метод химических реакций газотранспортные реакции металлоорганические соединения физические методы газофазной эпитаксии методы испарения горячая стенка молекулярно-лучевая эпитаксия физические процессы технологическое оборудование перспективы развития применение метода жидкофазная эпитаксия многокомпонентные твердые растворы соединения а iii в v термодинамическая неустойчивость аппаратурно-методические особенности подготовка поверхности подложек источники загрязнений классификация методов очистки жидкостная обработка подложек сухая очистка вакуумная очистка новые методы синтеза ультратонкие слои химическая сборка поверхностные наноструктуры
On-line přístup:	http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75731 https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg
Médium:	Elektronický zdroj Kniha