Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций, учебное пособие для вузов

Dades bibliogràfiques
Autor principal: Ратушный В. И.
Altres autors: Ермолаева Н. В., Смолин А. Ю.
Sumari:Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений
В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, дальнейшие перспективы развития и применения. Большое внимание уделено используемому технологическому оборудованию и физическим процессам, лежащим в основе каждого метода, а также методам жидкофазной эпитаксии и получению многокомпонентных твердых растворов соединений A III B V . Пособие составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплинам «Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций», «Технологии материалов электронной техники». Предназначено для организации самостоятельной работы студентов очной формы обучения по направлению подготовки 210100 – «Электроника и наноэлектроника», профиль подготовки «Микроэлектроника и твердотельная электроника», а также для аспирантов, научных сотрудников и инженеров-технологов, специализирующихся в области технологии материалов электронной техники.
Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки
Publicat: Москва, НИЯУ МИФИ, 2012
Matèries:
Accés en línia:http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75731
https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg
Format: Electrònic Llibre

MARC

LEADER 00000nam0a2200000 i 4500
001 75731
010 |a 978-5-7262-1589-1 
100 |a 20250516d2012 k y0rusy01020304ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
105 |a y j 000zy 
106 |a z 
200 1 |a Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций  |b Электронный ресурс  |f Ратушный В. И.,Ермолаева Н. В.,Смолин А. Ю.  |e учебное пособие для вузов 
210 |a Москва  |b Москва  |c НИЯУ МИФИ  |d 2012 
215 |a 200 с. 
300 |a Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии» в качестве учебного пособия для студентов высших учебных заведений 
330 |a В пособии рассмотрены особенности различных методов получения эпитаксиальных полупроводниковых гетерокомпозиций на основе твердых растворов соединений А 3 В 5 , А 2 В 6 , А 2 В 4 , твердых растворов германий–кремний, аппаратурнометодические особенности каждого метода, их преимущества и недостатки, дальнейшие перспективы развития и применения. Большое внимание уделено используемому технологическому оборудованию и физическим процессам, лежащим в основе каждого метода, а также методам жидкофазной эпитаксии и получению многокомпонентных твердых растворов соединений A III B V . Пособие составлено в соответствии с Государственным образовательным стандартом по дисциплинам «Методы получения эпитаксиальных гетерокомпозиций», «Технологии материалов электронной техники». Предназначено для организации самостоятельной работы студентов очной формы обучения по направлению подготовки 210100 – «Электроника и наноэлектроника», профиль подготовки «Микроэлектроника и твердотельная электроника», а также для аспирантов, научных сотрудников и инженеров-технологов, специализирующихся в области технологии материалов электронной техники. 
333 |a Книга из коллекции НИЯУ МИФИ - Инженерно-технические науки 
610 0 |a эпитаксиальные гетероструктуры 
610 0 |a методы получения 
610 0 |a эпитаксиальная технология 
610 0 |a полупроводниковые материалы 
610 0 |a механизмы эпитаксиального роста 
610 0 |a тонкие пленки 
610 0 |a начальные стадии роста 
610 0 |a образование кристаллических зародышей 
610 0 |a газовая фаза 
610 0 |a химические методы 
610 0 |a эпитаксия из газообразной фазы 
610 0 |a диссоциация и восстановление 
610 0 |a легирование 
610 0 |a дефектообразование 
610 0 |a метод химических реакций 
610 0 |a газотранспортные реакции 
610 0 |a металлоорганические соединения 
610 0 |a физические методы газофазной эпитаксии 
610 0 |a методы испарения 
610 0 |a горячая стенка 
610 0 |a молекулярно-лучевая эпитаксия 
610 0 |a физические процессы 
610 0 |a технологическое оборудование 
610 0 |a перспективы развития 
610 0 |a применение метода 
610 0 |a жидкофазная эпитаксия 
610 0 |a многокомпонентные твердые растворы 
610 0 |a соединения а iii в v 
610 0 |a термодинамическая неустойчивость 
610 0 |a аппаратурно-методические особенности 
610 0 |a подготовка поверхности подложек 
610 0 |a источники загрязнений 
610 0 |a классификация методов очистки 
610 0 |a жидкостная обработка подложек 
610 0 |a сухая очистка 
610 0 |a вакуумная очистка 
610 0 |a новые методы синтеза 
610 0 |a ультратонкие слои 
610 0 |a химическая сборка 
610 0 |a поверхностные наноструктуры 
675 |a 621.382(075.8) 
686 |a 22.3  |2 rubbk 
700 1 |a Ратушный  |b В. И. 
701 1 |a Ермолаева  |b Н. В. 
701 1 |a Смолин  |b А. Ю. 
801 1 |a RU  |b Издательство Лань  |c 20250516  |g RCR 
856 4 |u http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=75731 
856 4 1 |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg 
953 |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/75731.jpg