Адсорбция атома кремния на поверхностях (001) и (110) соединений TiN, TaN, AlN: расчеты из первых принципов; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 282-284
Հիմնական հեղինակ: Огнев С. О. Сергей Олегович
Համատեղ հեղինակ: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Այլ հեղինակներ: Святкин Л. А. Леонид Александрович (научный руководитель)
Ամփոփում:Заглавие с экрана
We present the results of ab initio study of silicon atom adsorption on the (001) and (110) surfaces of TiN, TaN, AlN compounds with NaCl structure. All possible symmetric nonequivalent positions of the silicon atom on the surfaces under study are considered, and the binding energy for the silicon atom in these positions is calculated. The most energetically favorable positions for adsorption on the (001) and (110) surfaces under consideration have been established
Текстовый файл
Լեզու:ռուսերեն
Հրապարակվել է: 2023
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80818
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=673428

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 673428
005 20241101140013.0
090 |a 673428 
100 |a 20240627d2023 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
200 1 |a Адсорбция атома кремния на поверхностях (001) и (110) соединений TiN, TaN, AlN: расчеты из первых принципов  |f С. О. Огнев  |g науч. рук. Л. А. Святкин ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ  |d Adsorption of silicon atoms on (001) and (110) surfaces of TiN, TaN, AlN compounds: first principle calculations  |z eng 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a Библиография: с. 284 
330 |a We present the results of ab initio study of silicon atom adsorption on the (001) and (110) surfaces of TiN, TaN, AlN compounds with NaCl structure. All possible symmetric nonequivalent positions of the silicon atom on the surfaces under study are considered, and the binding energy for the silicon atom in these positions is calculated. The most energetically favorable positions for adsorption on the (001) and (110) surfaces under consideration have been established  
336 |a Текстовый файл 
461 1 |0 636133  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г.  |d 2023  |9 636133  |a Курзина, И. А. (химик ; 1972-)  |c Томск  |n Изд-во ТПУ 
463 1 |0 669915  |t Т. 1 : Физика  |v С. 282-284  |d 2023  |9 669915  |p 1 файл (75,9 MB, 442 с.)  |u conference_tpu-2023-C21_V1.pdf  |l Volume 1. Physics 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a трение 
610 1 |a износ 
610 1 |a защитные покрытия 
610 1 |a многокомпонентные покрытия 
610 1 |a нанокристаллические покрытия 
610 1 |a твердые растворы 
610 1 |a электронная плотность 
610 1 |a кремний 
700 1 |a Огнев  |b С. О.  |c специалист в области ядерных технологий  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1999-  |g Сергей Олегович  |9 22796 
702 1 |a Святкин  |b Л. А.  |c физик  |c доцент Томского политехнического университета, Кандидат физико-математических наук  |f 1988-  |g Леонид Александрович  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Отделение экспериментальной физики  |9 28346 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20240627  |g RCR 
856 4 |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80818  |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80818 
942 |c CF