Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 168-170
Autor principal: Зайцев Даниил Дмитриевич Д. Д.
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Otros Autores: Евдокимов К. Е. Кирилл Евгеньевич (научный руководитель)
Sumario:Заглавие с экрана
Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model
Текстовый файл
Lenguaje:ruso
Publicado: 2023
Materias:
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
магнетронные распылительные системы
МРС
тонкопленочные покрытия
плазма
математическая модель
магнитное поле
планарный магнетрон
Acceso en línea:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=672725

Ejemplares similares

Ejemplares similares