Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Dettagli Bibliografici
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 168-170
Autore principale: Зайцев Даниил Дмитриевич Д. Д.
Ente Autore: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Altri autori: Евдокимов К. Е. Кирилл Евгеньевич (научный руководитель)
Riassunto:Заглавие с экрана
Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model
Текстовый файл
Lingua:russo
Pubblicazione: 2023
Soggetti:
Accesso online:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798
Natura: MixedMaterials Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=672725

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 672725
005 20241122111735.0
090 |a 672725 
100 |a 20240526d2023 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
200 1 |a Моделирование магнитной подсистемы планарного магнетрона  |f Д. Д. Зайцев  |g науч. рук. К. Е. Евдокимов ; Инженерная школа ядерных технологий НИ ТПУ  |d Simulation of the magnetic subsystem of a planar magnetron  |z eng 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a Библиография: с. 170 
330 |a Magnetron sputtering systems are commonly used to change the functional properties of materials by applying thin-film coatings. In this work, we have simulated the magnetic field of the magnetic subsystem of a planar magnetron magnetron sputtering system in a 17 mm above target in increments of 1 cm by z-component using the Wolfram Mathematica 13.1 and Elcut. The dependence of the magnetic field on the distance from the target is provided and discussed. The simulation results, over a range of considered distances, are in good agreement with an experimental study. The developed module can be used for designing a magnetron system based on the created model  
336 |a Текстовый файл 
461 1 |0 636133  |t Перспективы развития фундаментальных наук  |l Prospects of Fundamental Sciences Development  |o сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г.  |d 2023  |9 636133  |a Курзина, И. А. (химик ; 1972-)  |c Томск  |n Изд-во ТПУ 
463 1 |0 669915  |t Т. 1 : Физика  |v С. 168-170  |d 2023  |9 669915  |p 1 файл (75,9 MB, 442 с.)  |u conference_tpu-2023-C21_V1.pdf  |l Volume 1. Physics 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a магнетронные распылительные системы 
610 1 |a МРС 
610 1 |a тонкопленочные покрытия 
610 1 |a плазма 
610 1 |a математическая модель 
610 1 |a магнитное поле 
610 1 |a планарный магнетрон 
700 1 |a Зайцев  |g Даниил Дмитриевич  |b Д. Д.  |f 2001-  |c специалист в области ядерных технологий  |c инженер Томского политехнического университета  |y Томск  |7 ca  |8 rus  |9 88688 
702 1 |a Евдокимов  |b К. Е.  |c физик  |c старший преподаватель Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1976-  |g Кирилл Евгеньевич  |4 727 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Отделение экспериментальной физики  |9 28346 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20240526  |g RCR 
856 4 |z http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798  |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80798 
942 |c CF