Поиск режимов осаждения оксида иттрия в металлическом режиме работы магнетронной распылительной системы

Detalhes bibliográficos
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 114-116
Autor principal: Воронина Е. Д. Екатерина Дмитриевна
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Outros Autores: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (727)
Resumo:Заглавие с экрана
This study aims to identify the possibility of deposition of yttrium oxide coatings using reactive magnetron sputtering in the metallic mode. There is found that sputtering yttrium target in the metallic mode can be done using dual magnetron sputtering of yttrium and copper targets
Текстовый файл
Publicado em: 2023
Assuntos:
Acesso em linha:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80786
Formato: Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=672304

Registos relacionados