Поиск режимов осаждения оксида иттрия в металлическом режиме работы магнетронной распылительной системы

Bibliographic Details
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 114-116
Main Author: Воронина Е. Д. Екатерина Дмитриевна
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Other Authors: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (727)
Summary:Заглавие с экрана
This study aims to identify the possibility of deposition of yttrium oxide coatings using reactive magnetron sputtering in the metallic mode. There is found that sputtering yttrium target in the metallic mode can be done using dual magnetron sputtering of yttrium and copper targets
Текстовый файл
Published: 2023
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80786
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=672304