Поиск режимов осаждения оксида иттрия в металлическом режиме работы магнетронной распылительной системы; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Бібліографічні деталі
Parent link:Курзина, И. А. (химик ; 1972-). Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XX Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2023 г..— .— Томск: Изд-во ТПУ, 2023
Т. 1 : Физика.— 2023.— С. 114-116
Автор: Воронина Е. Д. Екатерина Дмитриевна
Співавтор: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Інші автори: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович (научный руководитель)
Резюме:Заглавие с экрана
This study aims to identify the possibility of deposition of yttrium oxide coatings using reactive magnetron sputtering in the metallic mode. There is found that sputtering yttrium target in the metallic mode can be done using dual magnetron sputtering of yttrium and copper targets
Текстовый файл
Мова:Російська
Опубліковано: 2023
Предмети:
Онлайн доступ:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/80786
Формат: Електронний ресурс Частина з книги
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=672304
Опис
Резюме:Заглавие с экрана
This study aims to identify the possibility of deposition of yttrium oxide coatings using reactive magnetron sputtering in the metallic mode. There is found that sputtering yttrium target in the metallic mode can be done using dual magnetron sputtering of yttrium and copper targets
Текстовый файл