Magnetron Sputtering Deposition of Intermetallic Coatings Using Tin and Niobium Plasma; Russian Physics Journal; Vol. 65, iss. 11

Detalhes bibliográficos
Parent link:Russian Physics Journal
Vol. 65, iss. 11.— 2023.— [P. 2004-2009]
Autores corporativos: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики
Outros Autores: Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich, Kharisova A. E. Anastasiya Evgenjevna, Selezneva T. V. Tatjyana Vyacheslavovna, Saveljev A. I. Aleksandr Igorevich, Kazimirov A. I. Artyom Igorevich
Resumo:Title screen
The paper studies the formation mechanisms of niobium (Nb) – tin (Sn) coatings during the magnetron sputtering deposition. The coatings are obtained both by layer-by-layer and simultaneous sputtering of Nb and Sn targets. The optimum operation mode is determined for the magnetron to provide the tin surface concentration of 19?26 at.%. The elemental composition and microstructure of the obtained coatings are studied in this paper. The structure and phase composition are investigated after 800°C annealing in a high-vacuum furnace. Research results indicate to the formation of the intermetallic compound triniobium tin. From the viewpoint of expected superconducting properties, the best results are obtained by a simultaneous use of two plasma sources.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:inglês
Publicado em: 2023
Assuntos:
Acesso em linha:https://doi.org/10.1007/s11182-023-02862-y
Formato: Recurso Eletrônico Capítulo de Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=669317

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 669317
005 20250904150846.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\40557 
035 |a RU\TPU\network\40556 
090 |a 669317 
100 |a 20230322d2023 k||y0rusy50 ba 
101 0 |a eng 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Magnetron Sputtering Deposition of Intermetallic Coatings Using Tin and Niobium Plasma  |d Формирование интерметаллидных покрытий при использовании плазмы олова и ниобия методом магнетронного напыления  |f Yu. N. Yuriev, A. E. Kharisova, T. V. Selezneva [et al.] 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: 17 tit.] 
330 |a The paper studies the formation mechanisms of niobium (Nb) – tin (Sn) coatings during the magnetron sputtering deposition. The coatings are obtained both by layer-by-layer and simultaneous sputtering of Nb and Sn targets. The optimum operation mode is determined for the magnetron to provide the tin surface concentration of 19?26 at.%. The elemental composition and microstructure of the obtained coatings are studied in this paper. The structure and phase composition are investigated after 800°C annealing in a high-vacuum furnace. Research results indicate to the formation of the intermetallic compound triniobium tin. From the viewpoint of expected superconducting properties, the best results are obtained by a simultaneous use of two plasma sources. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Russian Physics Journal 
463 |t Vol. 65, iss. 11  |v [P. 2004-2009]  |d 2023 
510 1 |a Формирование интерметаллидных покрытий при использовании плазмы олова и ниобия методом магнетронного напыления  |z rus 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a magnetron sputtering 
610 1 |a metal plasma 
610 1 |a niobium-tin 
610 1 |a superconductive coating 
610 1 |a high-temperature annealing 
610 1 |a магнетронное напыление 
610 1 |a плазма 
610 1 |a покрытия 
610 1 |a отжиг 
701 1 |a Yuriev  |b Yu. N.  |c specialist in the field of hydrogen energy  |c Head of the laboratory of Tomsk Polytechnic University, Associate Scientist  |f 1984-  |g Yuri Nikolaevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31508  |9 15669 
701 1 |a Kharisova  |b A. E.  |c nuclear technology specialist  |c engineer of Tomsk Polytechnic University  |f 1994-  |g Anastasiya Evgenjevna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\46775 
701 1 |a Selezneva  |b T. V.  |c physicist  |c Engineer of Tomsk Polytechnic University  |f 1998-  |g Tatjyana Vyacheslavovna  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47539 
701 1 |a Saveljev  |b A. I.  |g Aleksandr Igorevich 
701 1 |a Kazimirov  |b A. I.  |g Artyom Igorevich 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов  |c (2017- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23551 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа ядерных технологий  |b Отделение экспериментальной физики  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23549 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20230322  |g RCR 
856 4 0 |u https://doi.org/10.1007/s11182-023-02862-y 
942 |c CF