Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/3 (приложение)

Chi tiết về thư mục
Parent link:Известия вузов. Физика=Russian Physics Journal.— , 1958-2017, 2020-
Т. 54, № 11/3 (приложение).— 2011.— [С. 47-52]
Tác giả chính: Журавков С. П. Сергей Петрович
Tác giả của công ty: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 12
Tác giả khác: Тоболкин А. С. Александр Савосьянович
Tóm tắt:Заглавие с экрана
Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Ngôn ngữ:Tiếng Nga
Được phát hành: 2011
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583
Định dạng: Điện tử Chương của sách
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668903

Những quyển sách tương tự