Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики

Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики

Bibliographische Detailangaben
Parent link:Известия вузов. Физика=Russian Physics Journal.— , 1958-2017, 2020-
Т. 54, № 11/3 (приложение).— 2011.— [С. 47-52]
1. Verfasser: Журавков С. П. Сергей Петрович
Körperschaft: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 12
Weitere Verfasser: Тоболкин А. С. Александр Савосьянович
Zusammenfassung:Заглавие с экрана
Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: 2011
Schlagworte:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
плазма
газовые разряды
керамика
Online-Zugang:https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583
Format: Elektronisch Buchkapitel
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668903

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge