Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики
| Parent link: | Известия вузов. Физика=Russian Physics Journal.— , 1958-2017, 2020- Т. 54, № 11/3 (приложение).— 2011.— [С. 47-52] |
|---|---|
| Автор: | |
| Співавтор: | |
| Інші автори: | |
| Резюме: | Заглавие с экрана Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
2011
|
| Предмети: | |
| Онлайн доступ: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583 |
| Формат: | Електронний ресурс Частина з книги |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668903 |