Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/3 (приложение)
| Parent link: | Известия вузов. Физика=Russian Physics Journal.— , 1958-2017, 2020- Т. 54, № 11/3 (приложение).— 2011.— [С. 47-52] |
|---|---|
| Päätekijä: | |
| Yhteisötekijä: | |
| Muut tekijät: | |
| Yhteenveto: | Заглавие с экрана Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Kieli: | venäjä |
| Julkaistu: |
2011
|
| Aiheet: | |
| Linkit: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583 |
| Aineistotyyppi: | Elektroninen Kirjan osa |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668903 |