Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/3 (приложение)
| Parent link: | Известия вузов. Физика=Russian Physics Journal.— , 1958-2017, 2020- Т. 54, № 11/3 (приложение).— 2011.— [С. 47-52] |
|---|---|
| 主要作者: | |
| 企业作者: | |
| 其他作者: | |
| 总结: | Заглавие с экрана Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| 语言: | 俄语 |
| 出版: |
2011
|
| 主题: | |
| 在线阅读: | https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583 |
| 格式: | MixedMaterials 电子 本书章节 |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668903 |
MARC
| LEADER | 00000nla2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 668903 | ||
| 005 | 20240118145930.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\network\40140 | ||
| 035 | |a RU\TPU\network\11933 | ||
| 090 | |a 668903 | ||
| 100 | |a 20230202a2011 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drnn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Использование неравновесной плазмы газового разряда для активации поверхности керамики |f С. П. Журавков, А. С. Тоболкин | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: 11 назв.] | ||
| 330 | |a Изучена возможность использования одноэлектродного высокочастотного разряда для предварительной подготовки поверхности керамики перед химическим меднением. Показана эффективность применения высокочастотной плазменной обработки по сравнению с традиционными стадиями обезжиривания и травления в классической схеме химической металлизации керамических подложек из оксида и нитрида алюминия, нитрида тантала и других материалов. Установлено, что качество получаемых медных покрытий зависит от условий плазменной обработки и химической природы обрабатываемой керамики. | ||
| 333 | |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса | ||
| 461 | 0 | |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191 |t Известия вузов. Физика |l Russian Physics Journal |d 1958-2017, 2020- | |
| 463 | 0 | |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\165428 |t Т. 54, № 11/3 (приложение) |v [С. 47-52] |d 2011 | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a плазма | |
| 610 | 1 | |a газовые разряды | |
| 610 | 1 | |a керамика | |
| 700 | 1 | |a Журавков |b С. П. |c химик |c ведущий научный сотрудник, доцент Томского политехнического университета, кандидат химических наук |f 1961- |g Сергей Петрович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28225 |9 13178 | |
| 701 | 1 | |a Тоболкин |b А. С. |g Александр Савосьянович | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |b Лаборатория № 12 |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19054 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20230202 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u https://www.elibrary.ru/item.asp?id=17650583 | |
| 942 | |c CF | ||