Radio frequency bias enhanced nucleation of CVD diamond

Detaylı Bibliyografya
Parent link:Materials Letters
Vol. 324.— 2022.— [132670, 4 p.]
Kurumsal yazarlar: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
Diğer Yazarlar: Linnik S. A. Stepan Andreevich, Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich, Mitulinsky A. S. Aleksandr Sergeevich, Zenkin S. P. Sergey Petrovich
Özet:Title screen
In this work, a new technique of bias enhanced nucleation of diamond on dielectric and weakly conductive substrates by application of a radio frequency (RF) 13.56 MHz bias on them was developed. The effect of RF discharge power, methane concentration, and duration of exposure on the nucleation density was studied. Comparison of an RF bias with a DC bias was made. Comparative data of a diamond nucleation on silicon and sapphire substrates are presented. This technique has a great potential to solve the tasks of diamond heteroepitaxy, as well as to achieve a high density of nucleation on dielectric substrates.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Dil:İngilizce
Baskı/Yayın Bilgisi: 2022
Konular:
Online Erişim:https://doi.org/10.1016/j.matlet.2022.132670
Materyal Türü: Elektronik Kitap Bölümü
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=668170

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 668170
005 20250320163348.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\39394 
035 |a RU\TPU\network\39275 
090 |a 668170 
100 |a 20220628d2022 k||y0rusy50 ba 
101 0 |a eng 
102 |a NL 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Radio frequency bias enhanced nucleation of CVD diamond  |f S. A. Linnik, A. V. Gaydaychuk, A. S. Mitulinsky, S. P. Zenkin 
203 |a Text  |c electronic 
300 |a Title screen 
320 |a [References: 23 tit.] 
330 |a In this work, a new technique of bias enhanced nucleation of diamond on dielectric and weakly conductive substrates by application of a radio frequency (RF) 13.56 MHz bias on them was developed. The effect of RF discharge power, methane concentration, and duration of exposure on the nucleation density was studied. Comparison of an RF bias with a DC bias was made. Comparative data of a diamond nucleation on silicon and sapphire substrates are presented. This technique has a great potential to solve the tasks of diamond heteroepitaxy, as well as to achieve a high density of nucleation on dielectric substrates. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Materials Letters 
463 |t Vol. 324  |v [132670, 4 p.]  |d 2022 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a CVD diamond 
610 1 |a bias-enhanced nucleation 
610 1 |a ion bombardment 
610 1 |a radio frequency bias 
701 1 |a Linnik  |b S. A.  |c physicist  |c Engineer-Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1985-  |g Stepan Andreevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32877  |9 16725 
701 1 |a Gaydaychuk  |b A. V.  |c physicist  |c Postgraduate, Engineer - Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1984-  |g Alexander Valerievich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\32876  |9 16724 
701 1 |a Mitulinsky  |b A. S.  |c electric power specialist  |c technician of Tomsk Polytechnic University  |f 1998-  |g Aleksandr Sergeevich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\47113 
701 1 |a Zenkin  |b S. P.  |c physicist  |c Researcher of Tomsk Polytechnic University  |f 1988-  |g Sergey Petrovich  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\41880 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов  |c (2017- )  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23551 
712 0 2 |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет  |b Инженерная школа новых производственных технологий  |b Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"  |3 (RuTPU)RU\TPU\col\23502 
801 0 |a RU  |b 63413507  |c 20220628  |g RCR 
856 4 |u https://doi.org/10.1016/j.matlet.2022.132670 
942 |c CF