Подавление рэлей-тейлоровских неустойчивостей в Z-пинчах
| Parent link: | Письма в Журнал технической физики.— , 1975- Т. 41, вып. 11.— 2015.— [С. 86-93] |
|---|---|
| Korporativní autor: | |
| Další autoři: | , , , , , |
| Shrnutí: | Заглавие с экрана Эксперименты по исследованию стабильности сжатия Z-пинчей проводились при токе 450 kA со временем нарастания 450 ns. Плазменная оболочка пинчей формировалась с помощью испарения материала электродов при горении вакуумной дуги. Для подавления рэлей-тейлоровских (РТ) неустойчивостей использовался режим горения дуги на поверхности одного из электродов высоковольтного промежутка, в котором располагается пинч. В результате свободного истечения плазмы радиальное распределение плотности формировалось таким образом, что концентрация плазмы нарастала от внешней границы по направлению к оси оболочки. Эксперименты показали, что такое начальное радиальное распределение плотности обеспечивает практически полное подавление РТ-неустойчивости. |
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
2015
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://elibrary.ru/item.asp?id=24196439 |
| Médium: | Elektronický zdroj Kapitola |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667435 |
| Shrnutí: | Заглавие с экрана Эксперименты по исследованию стабильности сжатия Z-пинчей проводились при токе 450 kA со временем нарастания 450 ns. Плазменная оболочка пинчей формировалась с помощью испарения материала электродов при горении вакуумной дуги. Для подавления рэлей-тейлоровских (РТ) неустойчивостей использовался режим горения дуги на поверхности одного из электродов высоковольтного промежутка, в котором располагается пинч. В результате свободного истечения плазмы радиальное распределение плотности формировалось таким образом, что концентрация плазмы нарастала от внешней границы по направлению к оси оболочки. Эксперименты показали, что такое начальное радиальное распределение плотности обеспечивает практически полное подавление РТ-неустойчивости. |
|---|