Подавление рэлей-тейлоровских неустойчивостей в Z-пинчах

Подавление рэлей-тейлоровских неустойчивостей в Z-пинчах

Bibliographic Details
Parent link:	Письма в Журнал технической физики.— , 1975- Т. 41, вып. 11.— 2015.— [С. 86-93]
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Институт неразрушающего контроля Кафедра физических методов и приборов контроля качества
Other Authors:	Жигалин А. С. Александр Сергеевич, Русских А. Г. Александр Геннадиевич, Баркшт Р. Б., Чайковский С. А., Лабецкая Н. А. Наталья Анатольевна, Орешкин В. И. Владимир Иванович
Summary:	Заглавие с экрана Эксперименты по исследованию стабильности сжатия Z-пинчей проводились при токе 450 kA со временем нарастания 450 ns. Плазменная оболочка пинчей формировалась с помощью испарения материала электродов при горении вакуумной дуги. Для подавления рэлей-тейлоровских (РТ) неустойчивостей использовался режим горения дуги на поверхности одного из электродов высоковольтного промежутка, в котором располагается пинч. В результате свободного истечения плазмы радиальное распределение плотности формировалось таким образом, что концентрация плазмы нарастала от внешней границы по направлению к оси оболочки. Эксперименты показали, что такое начальное радиальное распределение плотности обеспечивает практически полное подавление РТ-неустойчивости.
Language:	Russian
Published:	2015
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ неустойчивость сжатие плазменные оболочки горение плазма
Online Access:	https://elibrary.ru/item.asp?id=24196439
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667435

Internet

https://elibrary.ru/item.asp?id=24196439