Radioactivation Monitoring of the Density of Wear-Resistant AlN and CrN Coatings on Silicon

Radioactivation Monitoring of the Density of Wear-Resistant AlN and CrN Coatings on Silicon

Podrobná bibliografie
Parent link:Technical Physics Letters
Vol. 47, iss. 7.— 2021.— [P. 524-527]
Korporace: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Научно-производственная лаборатория "Импульсно-пучковых, электроразрядных и плазменных технологий"
Další autoři: Ryzhkov V. A. Vladislav Andreevich, Tarbokov V. A. Vladislav Aleksandrovich, Smolyansky E. A. Egor Aleksandrovich, Remnev G. E. Gennady Efimovich
Shrnutí:Title screen
A combination of two methods (nondestructive proton beam radioactivation analysis and optical microinterferometry) has been used for measuring the mass and linear thicknesses of AlN and CrN coatings deposited onto silicon substrates by means of magnetron sputtering. It is established that, at linear thickness from 2.2 to 5.7 μm, the density of deposits is close to that of bulk materials (3.26 g/cm3 for AlN and 5.9 g/cm3 for CrN), while the stoichiometry of nitrides can be controlled by varying the parameters of magnetron sputtering. The proposed method can also be used for determining the densities of metal carbide and oxide films used as wear-resistant coatings.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Jazyk:angličtina
Vydáno: 2021
Témata:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
density
radioactivation analysis
magnetron
microinterferometer
плотность
радиоактивный анализ
магнетроны
износостойкие покрытия
On-line přístup:https://doi.org/10.1134/S106378502105028X
Médium: Elektronický zdroj Kapitola
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=667310

Podobné jednotky

Podobné jednotky