Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Korneva O. S. Olga Sergeevna, & Sivin D. O. Denis Olegovich. (2021). Special Aspects of High-Intensity Low-Energy Ion Implantation; Russian Physics Journal; Vol. 63, iss. 10. 2021. https://doi.org/10.1007/s11182-021-02238-0
Citación estilo ChicagoНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ivanova A. I. Anna Ivanovna, Korneva O. S. Olga Sergeevna, and Sivin D. O. Denis Olegovich. Special Aspects of High-Intensity Low-Energy Ion Implantation; Russian Physics Journal; Vol. 63, Iss. 10. 2021, 2021. https://doi.org/10.1007/s11182-021-02238-0.
Cita MLAНациональный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. Special Aspects of High-Intensity Low-Energy Ion Implantation; Russian Physics Journal; Vol. 63, Iss. 10. 2021, 2021. https://doi.org/10.1007/s11182-021-02238-0.