APA ציטוט

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Selivanova A. V. Aleksandra Viktorovna, & Konishchev M. E. Maksim Evgenievich. (2020). Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics; Russian Physics Journal; Vol. 62, iss. 11. 2020. https://doi.org/10.1007/s11182-019-01835-4

Chicago Style (17th ed.) Citation

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Grenaderov A. S. Aleksandr Sergeevich, Oskomov K. V. Konstantin Vladimirovich, Soloviev A. A. Andrey Aleksandrovich, Selivanova A. V. Aleksandra Viktorovna, and Konishchev M. E. Maksim Evgenievich. Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics; Russian Physics Journal; Vol. 62, Iss. 11. 2020, 2020. https://doi.org/10.1007/s11182-019-01835-4.

ציטוט MLA

Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. Plasma-Chemical Deposition of Anti-Reflection and Protective Coating for Infrared Optics; Russian Physics Journal; Vol. 62, Iss. 11. 2020, 2020. https://doi.org/10.1007/s11182-019-01835-4.