Плазмохимический синтез аморфных углеводородных пленок, легированных кремнием, кислородом и азотом
| Parent link: | Известия вузов. Физика: научный журнал/ Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) Т. 62, № 7 (739).— 2019.— [С. 97-104] |
|---|---|
| Autores corporativos: | , |
| Outros Autores: | , , , , |
| Resumo: | Заглавие с экрана Получены и исследованы аморфные углеводородные (a-C:H) пленки, легированные Si, O и N. Пленки наносились на образцы кристаллического кремния методом плазмохимического осаждения в смеси паров полифенилметилсилоксана, аргона и азота. Исследовано влияние содержания азота в пленках на их физико-механические свойства. Состав пленок изучали методами рентгеновской флуоресцентной спектроскопии и инфракрасной спектроскопии с фурье-преобразованием. Структура пленок изучалась с использованием рамановской спектроскопии. Твердость и другие механические свойства пленок были определены с помощью наноиндентирования. Показано, что химический состав и свойства a-C:H:SiO x :N-пленок можно контролировать путем изменения парциального давления азота в процессе осаждения. Увеличение содержания азота в a-C:H:SiO x :N-пленке приводит к росту ее среднеквадратической шероховатости и угла смачивания с водой. Также это сопровождается уменьшением содержания углерода в пленке и уменьшением ее твердости, обусловленным уменьшением содержания sp 3-фазы углерода. In this work, amorphous hydrocarbon (a-C:H) films doped with Si, O, and N were obtained and studied. Films were deposited on samples of crystalline silicon by plasma chemical deposition in a mixture of polyphenylmethylsiloxane vapor, argon, and nitrogen. The effect of nitrogen content in films on their physico-mechanical properties is investigated. The composition of the films was studied by X-ray fluorescence spectroscopy and Fourier-transform infrared spectroscopy. The structure of the films was studied using Raman spectroscopy. Hardness and other mechanical properties of the films were determined using nanoindentation. It is shown that the chemical composition and properties of a-C:H:SiOx:N films can be controlled by changing the partial pressure of nitrogen during the deposition process. An increase in the nitrogen content in a-C:H:SiOx:N film leads to an increase in its root-mean-square roughness and wetting angle with water. It is also accompanied by a decrease in the carbon content in the film and a decrease in its hardness, due to a decrease in the content of the sp3-phase of carbon. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Publicado em: |
2019
|
| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://elibrary.ru/item.asp?id=39214858 |
| Formato: | Recurso Eletrônico Capítulo de Livro |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=661605 |