Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Abadias G. Gregory, Danilyuk A. Yu. Anastasiya Yurjevna, Solodukhin I. A. Igor Anatoljevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, & Zlotsky S. V. Sergey Vladimirovich. (2018). Thermal Stability of TiZrAlN and TiZrSiN Films Formed by Reactive Magnetron Sputtering; Inorganic Materials: Applied Research; Vol. 9, iss. 3. 2018. https://doi.org/10.1134/S2075113318030024
Citación estilo ChicagoНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, Abadias G. Gregory, Danilyuk A. Yu. Anastasiya Yurjevna, Solodukhin I. A. Igor Anatoljevich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich, and Zlotsky S. V. Sergey Vladimirovich. Thermal Stability of TiZrAlN and TiZrSiN Films Formed by Reactive Magnetron Sputtering; Inorganic Materials: Applied Research; Vol. 9, Iss. 3. 2018, 2018. https://doi.org/10.1134/S2075113318030024.
Cita MLAНациональный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов, et al. Thermal Stability of TiZrAlN and TiZrSiN Films Formed by Reactive Magnetron Sputtering; Inorganic Materials: Applied Research; Vol. 9, Iss. 3. 2018, 2018. https://doi.org/10.1134/S2075113318030024.