Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, & Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. (2019). The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169. 2019. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.108914
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, Bleykher G. A. Galina Alekseevna, Yuryeva A. V. Alena Victorovna, Shabunin A. S. Artem Sergeevich, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich, und Yuriev Yu. N. Yuri Nikolaevich. The Properties of Cu Films Deposited by High Rate Magnetron Sputtering from a Liquid Target; Vacuum; Vol. 169. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.108914.
MLA-Zitierstil (9. Ausg.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга, et al. The Properties of Cu Films Deposited by High Rate Magnetron Sputtering from a Liquid Target; Vacuum; Vol. 169. 2019, 2019. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.108914.