Influence of a Hydrogen Atmosphere on the Properties of an Aluminum Oxide Film on VT1-0 Titanium; Technical Physics; Vol. 64, iss. 4

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
Parent link:Technical Physics
Vol. 64, iss. 4.— 2019.— [P. 518-522]
সংস্থা লেখক: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение экспериментальной физики, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Отделение ядерно-топливного цикла, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Школа базовой инженерной подготовки Отделение естественных наук
অন্যান্য লেখক: Sypchenko V. S. Vladimir Sergeevich, Wang Cailun, Nikitenkov N. N. Nikolai Nikolaevich, Sigfusson T. I. Torsteinn Ingi, Kiseleva E. S. Evgeniya Sergeevna
সংক্ষিপ্ত:Title screen
In this study, we have considered interaction between an aluminum oxide film magnetron-sputtered on commercially pure VT1-0 titanium and a hydrogen atmosphere. The time the system was exposed to hydrogen varied from 1 to 4 h with all other parameters remaining the same. Data for the distribution of hydrogen over the depth (film thickness) and its content in the thin-film system have been obtained, and the influence of the hold time in hydrogen on the adhesion and friction coefficient of the film has been revealed. In addition, the surface conductivity and hydrogen distribution in the aluminum oxide film have been determined.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
ভাষা:ইংরেজি
প্রকাশিত: 2019
বিষয়গুলি:
অনলাইন ব্যবহার করুন:https://doi.org/10.1134/S1063784219040236
বিন্যাস: বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায়
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=661001

অনুরূপ উপাদানগুলি