High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

Detalles Bibliográficos
Parent link:Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019).— 2019.— [P. 74]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники
Outros autores: Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Summary:Заглавие с экрана
Idioma:inglés
Publicado: 2019
Series:Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
имплантация
ионы металлов
минимизация
ионное распыление
поверхности
материалы
Acceso en liña:https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878

Títulos similares

Títulos similares