High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

Bibliografski detalji
Parent link:	Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019).— 2019.— [P. 74]
Autori kompanije:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники
Daljnji autori:	Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Sažetak:	Заглавие с экрана
Jezik:	engleski
Izdano:	2019
Serija:	Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Teme:	электронный ресурс труды учёных ТПУ имплантация ионы металлов минимизация ионное распыление поверхности материалы
Online pristup:	https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Format:	Elektronički Poglavlje knjige
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878

Internet