High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface

High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface

Bibliographic Details
Parent link:	Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019): 21st International Conference, 25-30 August 2019, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU). [P. 74].— , 2019
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Other Authors:	Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Summary:	Заглавие с экрана
Published:	2019
Series:	Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ имплантация ионы металлов минимизация ионное распыление поверхности материалы
Online Access:	https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878

Internet

https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75