High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

Bibliographic Details
Parent link:	Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019).— 2019.— [P. 74]
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Other Authors:	Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Summary:	Заглавие с экрана
Language:	English
Published:	2019
Series:	Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ имплантация ионы металлов минимизация ионное распыление поверхности материалы
Online Access:	https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878

Internet