High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

Bibliografische gegevens
Parent link:	Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019).— 2019.— [P. 74]
Coauteurs:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники
Andere auteurs:	Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Samenvatting:	Заглавие с экрана
Taal:	Engels
Gepubliceerd in:	2019
Reeks:	Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Onderwerpen:	электронный ресурс труды учёных ТПУ имплантация ионы металлов минимизация ионное распыление поверхности материалы
Online toegang:	https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Formaat:	Elektronisch Hoofdstuk
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878

Internet