High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)

Opis bibliograficzny
Parent link:Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019).— 2019.— [P. 74]
organizacja autorów: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Kolejni autorzy: Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Streszczenie:Заглавие с экрана
Język:angielski
Wydane: 2019
Seria:Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Hasła przedmiotowe:
Dostęp online:https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Format: Elektroniczne Rozdział
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878
Opis
Streszczenie:Заглавие с экрана