High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface

High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface

Dades bibliogràfiques
Parent link:Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019): 21st International Conference, 25-30 August 2019, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU). [P. 74].— , 2019
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий
Altres autors: Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, Koval T. V. Tamara Vasilievna
Sumari:Заглавие с экрана
Publicat: 2019
Col·lecció:Ion Beam Processing of Materials. Poster Session
Matèries:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
имплантация
ионы металлов
минимизация
ионное распыление
поверхности
материалы
Accés en línia:https://smmib.ru/assets/files/SMMIB2019_TOMSK_full.pdf#page=75
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660878
Descripció
Sumari:Заглавие с экрана

Ítems similars