Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, . . . Koval T. V. Tamara Vasilievna. (2019). High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019). 2019.
Citace podle Chicago (17th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Sivin D. O. Denis Olegovich, Ryabchikov A. I. Aleksandr Ilyich, Ananin P. S. Petr Semenovich, Stepanov I. B. Igor Borisovich, Modebadze G. S. Georgy Slavovich, a Koval T. V. Tamara Vasilievna. High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019). 2019, 2019.
Citace podle MLA (9th ed.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов, et al. High-Intensity Implantation of Metal Ions in Conditions of Minimizing Ion Sputtering of the Material Surface; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019). 2019, 2019.