Operation parameters of magnetron diode for high-rate deposition of aluminum films; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM)

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:Journal of Physics: Conference Series
Vol. 1115 : 6th International Congress "Energy Fluxes and Radiation Effects". 14th International Conference on Modification of Materials with Particle Beams and Plasma Flows (14th CMM).— 2018.— [032020, 5 p.]
Հիմնական հեղինակ: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Համատեղ հեղինակ: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий Научно-образовательный центр Б. П. Вейнберга
Այլ հեղինակներ: Grudinin V. A. Vladislav Alekseevich
Ամփոփում:Title screen
This article reports on the results of the detailed study of erosion of Al target in magnetron discharge plasma. It was demonstrated that the combination of middle-frequency (MF) and high impulse power (HiPIMS) power supply results in the significant increase of deposition rates of Al films by changing of sputtering yield. The MF pulse assists HiPIMS discharge to transit in a high power mode.
Լեզու:անգլերեն
Հրապարակվել է: 2018
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/57378
https://doi.org/10.1088/1742-6596/1115/3/032020
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=660038
Նկարագրություն
Ամփոփում:Title screen
This article reports on the results of the detailed study of erosion of Al target in magnetron discharge plasma. It was demonstrated that the combination of middle-frequency (MF) and high impulse power (HiPIMS) power supply results in the significant increase of deposition rates of Al films by changing of sputtering yield. The MF pulse assists HiPIMS discharge to transit in a high power mode.
DOI:10.1088/1742-6596/1115/3/032020