The Grain Boundary Diffusion of Silicon in Nickel Titanium under External Energy Deposition Alexey; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18)

The Grain Boundary Diffusion of Silicon in Nickel Titanium under External Energy Deposition Alexey; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18)

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:AIP Conference Proceedings
Vol. 2051 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18).— 2018.— [020188, 4 p.]
Համատեղ հեղինակ: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения
Այլ հեղինակներ: Maslov A. Alexey, Kryukova O. Olga, Knyazeva A. G. Anna Georgievna, Bukrina N. Natalya
Ամփոփում:Title screen
This paper presents a model of surface modification of nickel titanium specimen by electron beam. Chemical reactions were taken into account in the framework of a simple kinetic scheme and the difference in diffusion coefficients in nickel titanium volume and its boundary. The dynamics of formation of the reaction product with increasing temperature and diffusion of silicon into the specimen was investigated. Non-uniform phase formation, which leads to a complication of the heterogeneous structure of the titanium nickelide surface, was demonstrated.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Լեզու:անգլերեն
Հրապարակվել է: 2018
Խորագրեր:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
диффузия
кремний
границы зерен
осаждение
электронные пучки
гетерогенные структуры
никелид титана
Առցանց հասանելիություն:https://doi.org/10.1063/1.5083431
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=659198

Նմանատիպ նյութեր

Նմանատիպ նյութեր