Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Maslov A. Alexey, Kryukova O. Olga, Knyazeva A. G. Anna Georgievna, & Bukrina N. Natalya. (2018). The Grain Boundary Diffusion of Silicon in Nickel Titanium under External Energy Deposition Alexey; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051: Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18). 2018. https://doi.org/10.1063/1.5083431
Цитирование в стиле Чикаго (17-е изд.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, Maslov A. Alexey, Kryukova O. Olga, Knyazeva A. G. Anna Georgievna, и Bukrina N. Natalya. The Grain Boundary Diffusion of Silicon in Nickel Titanium Under External Energy Deposition Alexey; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051: Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18). 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5083431.
Цитирование MLA (9-е изд.)Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа новых производственных технологий Отделение материаловедения, et al. The Grain Boundary Diffusion of Silicon in Nickel Titanium Under External Energy Deposition Alexey; AIP Conference Proceedings; Vol. 2051: Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2018 (AMHS’18). 2018, 2018. https://doi.org/10.1063/1.5083431.