Высокоинтенсивные пучки ионов металлов и газов низкой энергии для ионно - лучевой модификации материалов

Detalhes bibliográficos
Parent link:Взаимодействие излучений с твердым телом (ВИТТ-2017).— 2017.— [С. 455-457]
Corporate Authors: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа информационных технологий и робототехники Отделение информационных технологий, Национальный исследовательский Томский политехнический университет Инженерная школа ядерных технологий (ИЯТШ) Научная лаборатория высокоинтенсивной имплантации ионов (НЛ ВИИ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет Исследовательская школа физики высокоэнергетических процессов
Outros Autores: Коваль Т. В. Тамара Васильевна, Рябчиков А. И. Александр Ильич, Иванова А. И. Александра Ивановна, Сивин Д. О. Денис Олегович, Шевелев А. Э. Алексей Эдуардович, Кулигин С. М. Сергей Михайлович
Resumo:Заглавие с экрана
Проведено экспериментальное и теоретическое исследование влияния параметров плазмы и частотно- импульсных характеристик потенциала смещения на формирование, транспортировку и фокусировку ионных пучков титана и азота высокой интенсивности (с плотностью ионного тока свыше 1 A/см2 и импульсной плотностью мощности 2.6 кВт/см2 ). Показано существенное влияние длительности импульса смещения на формирование ионного пучка и концентрации плазмы в пространстве дрейфа пучка на распределение и величину ионного тока на коллекторе.
This investigation presents the results of the development of a vacuum arc discharge-based repetitively pulsed high-current low-energy ion beam formation for material surface modification. A DC vacuum arc was used to produce a metal plasma flow. A plasma immersion approach was used for high-frequency short-pulse metal ion beam formation. A grid hemisphere with radii of 5, 7.5 or 10.5 cm was immersed in a titanium vacuum-arc plasma. Bias pulses with an amplitude in the range of 1-2.6 kV, pulse duration in the range of 2-8 μs, and pulse repetition rate of 105 pulses per second were applied to the grid. A repetitively pulsed mode of negative bias formation provided a possibility to increase the amplitude of bias up to several kilovolts and to focus ion beams with ion space charge neutralisation. The influence of bias pulse amplitude and duration on the parameters of formed ion beams was investigated. Titanium ion beams with a current density of more than 1 A/cm2 and a pulsed ion beam power density up to 2.6 kW/cm2 were obtained. The possibility of macroparticle-free high-intensity ion beam formation for surface modification of materials was demonstrated. Experimental and theoretical studies have shown that the duration of the bias pulse and the plasma density in the drift space of the beam significantly affect the ion beam transportation and the current density at the collector.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Idioma:russo
Publicado em: 2017
Assuntos:
Acesso em linha:https://elibrary.ru/item.asp?id=30078668
Formato: Recurso Electrónico Capítulo de Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=657865