Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method; Inorganic Materials: Applied Research; Vol. 8, iss. 1

Podrobná bibliografie
Parent link:Inorganic Materials: Applied Research.— , 2010-
Vol. 8, iss. 1.— 2017.— [P. 166-171]
Hlavní autor: An V. V. Vladimir Vilorievich
Korporace: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН)
Další autoři: Pogrebenkov V. M. Valery Matveevich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich
Shrnutí:Title screen
This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Jazyk:angličtina
Vydáno: 2017
Témata:
On-line přístup:http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X
Médium: Elektronický zdroj Kapitola
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=654140

Podobné jednotky