Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method

Dades bibliogràfiques
Parent link:Inorganic Materials: Applied Research.— , 2010-
Vol. 8, iss. 1.— 2017.— [P. 166-171]
Autor principal: An V. V. Vladimir Vilorievich
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН)
Altres autors: Pogrebenkov V. M. Valery Matveevich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich
Sumari:Title screen
This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Publicat: 2017
Matèries:
Accés en línia:http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=654140

Ítems similars