Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method

Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method

Bibliographic Details
Parent link:	Inorganic Materials: Applied Research.— , 2010- Vol. 8, iss. 1.— 2017.— [P. 166-171]
Main Author:	An V. V. Vladimir Vilorievich
Corporate Authors:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН)
Other Authors:	Pogrebenkov V. M. Valery Matveevich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich
Summary:	Title screen This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published:	2017
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ тонкопленочные изделия наноструктуризация мишени вольфрам сульфид меди
Online Access:	http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=654140

Internet

http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X