Properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering method

Մատենագիտական մանրամասներ
Parent link:Inorganic Materials: Applied Research.— , 2010-
Vol. 8, iss. 1.— 2017.— [P. 166-171]
Հիմնական հեղինակ: An V. V. Vladimir Vilorievich
Համատեղ հեղինակներ: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра общей химии и химической технологии (ОХХТ), Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Кафедра технологии силикатов и наноматериалов (ТСН)
Այլ հեղինակներ: Pogrebenkov V. M. Valery Matveevich, Zakharov A. N. Aleksandr Nikolaevich
Ամփոփում:Title screen
This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Հրապարակվել է: 2017
Խորագրեր:
Առցանց հասանելիություն:http://dx.doi.org/10.1134/S207511331701004X
Ձևաչափ: Էլեկտրոնային Գրքի գլուխ
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=654140
Նկարագրություն
Ամփոփում:Title screen
This article describes investigations into the properties of thin films of tungsten sulfide and copper sulfide produced by magnetron sputtering on glass substrates in argon atmosphere. Transmittance spectra of the obtained films are studied by spectrophotometry in the range from 300 to 900 nm; the band gaps are determined. The thickness of the obtained films varies in the range of 0.5-1 μm.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
DOI:10.1134/S207511331701004X