Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 133

Détails bibliographiques
Parent link:Vacuum.— , 1951-
Vol. 133.— 2016.— [P. 43–45]
Collectivité auteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Autres auteurs: Musil Y. Yindrikh, Javdosnak D., Cerstvy R. Radomir, Haviar S., Remnev G. E. Gennady Efimovich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich
Résumé:Title screen
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Langue:anglais
Publié: 2016
Sujets:
Accès en ligne:http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014
Format: Électronique Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=652991
Description
Résumé:Title screen
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
DOI:10.1016/j.vacuum.2016.08.014