Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering

Библиографические подробности
Источник:Vacuum.— , 1951-
Vol. 133.— 2016.— [P. 43–45]
Автор-организация: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Другие авторы: Musil Y. Yindrikh, Javdosnak D., Cerstvy R. Radomir, Haviar S., Remnev G. E. Gennady Efimovich, Uglov V. V. Vladimir Vasilievich
Примечания:Title screen
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Язык:английский
Опубликовано: 2016
Предметы:
Online-ссылка:http://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014
Формат: Электронный ресурс Статья
Запись в KOHA:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=652991