Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Musil Y. Yindrikh, Javdosnak D, Cerstvy R. Radomir, Haviar S, Remnev G. E. Gennady Efimovich, & Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. (2016). Effect of energy on the formation of flexible hard Al-Si-N films prepared by magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 133. 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014
Chicago Style (17th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, Musil Y. Yindrikh, Javdosnak D, Cerstvy R. Radomir, Haviar S, Remnev G. E. Gennady Efimovich, and Uglov V. V. Vladimir Vasilievich. Effect of Energy on the Formation of Flexible Hard Al-Si-N Films Prepared by Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 133. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014.
MLA (9th ed.) CitationНациональный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1, et al. Effect of Energy on the Formation of Flexible Hard Al-Si-N Films Prepared by Magnetron Sputtering; Vacuum; Vol. 133. 2016, 2016. https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2016.08.014.