Получение керамики на основе Si3N4 И TiN методом искрового плазменного спекания; Стекло и керамика; № 10

Détails bibliographiques
Parent link:Стекло и керамика.— , 1925-
№ 10.— 2015.— [С. 32-37]
Auteur principal: Евдокимов А. А. Андрей Анатольевич
Collectivité auteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет Энергетический институт Кафедра электроснабжения промышленных предприятий
Autres auteurs: Сивков А. А. Александр Анатольевич, Герасимов Д. Ю. Дмитрий Юрьевич
Résumé:Заглавие с экрана
Рассмотрены зависимости микроструктуры и физико-механических свойств керамики на основе Si3N4-TiN в широком диапазоне массовых соотношений компонентов. Исследован процесс спекания и происходящие при этом физические и химические процессы, в частности зависимость твердости и плотности материала от соотношения проводящей фазы нитрида титана и диэлектрической фазы нитрида кремния со значениями выше и ниже порога перколяции. Получена керамика на основе чистого нитрида титана с высокими физико-механическими характеристиками (H = 21,5 ГПа).
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Langue:russe
Publié: 2015
Collection:Наука - керамическому производству
Sujets:
Accès en ligne:http://elibrary.ru/item.asp?id=25096075
Format: Électronique Chapitre de livre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=652200

Documents similaires