Получение керамики на основе Si3N4 И TiN методом искрового плазменного спекания

Получение керамики на основе Si3N4 И TiN методом искрового плазменного спекания

Bibliographic Details
Parent link:	Стекло и керамика.— , 1925- № 10.— 2015.— [С. 32-37]
Main Author:	Евдокимов А. А. Андрей Анатольевич
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Энергетический институт Кафедра электроснабжения промышленных предприятий
Other Authors:	Сивков А. А. Александр Анатольевич, Герасимов Д. Ю. Дмитрий Юрьевич
Summary:	Заглавие с экрана Рассмотрены зависимости микроструктуры и физико-механических свойств керамики на основе Si3N4-TiN в широком диапазоне массовых соотношений компонентов. Исследован процесс спекания и происходящие при этом физические и химические процессы, в частности зависимость твердости и плотности материала от соотношения проводящей фазы нитрида титана и диэлектрической фазы нитрида кремния со значениями выше и ниже порога перколяции. Получена керамика на основе чистого нитрида титана с высокими физико-механическими характеристиками (H = 21,5 ГПа). Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Published:	2015
Series:	Наука - керамическому производству
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ искровое плазменное спекание нитрид титана нитрид кремния сверхтвердая керамика
Online Access:	http://elibrary.ru/item.asp?id=25096075
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=652200

Internet

http://elibrary.ru/item.asp?id=25096075