Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1

Investigation of deposition efficiency increase mechanisms using pulsed magnetron sputteringsystems with hot target; Plasma Physics and Technology Journal; Vol. 3, № 1

書誌詳細
Parent link:	Plasma Physics and Technology Journal Vol. 3, № 1.— 2016.— [P. 30]
団体著者:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет Физико-технический институт Кафедра экспериментальной физики
その他の著者:	Borduleva A. O. Alena Olegovna, Bleykher (Bleicher) G. A. Galina Alekseevna, Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich, Krivobokov V. P. Valery Pavlovich
要約:	Title screen Pulsed Magnetron Sputtering Systems (PMSS) have profound interest because of the possibility to deposithigh-quality coating on the complex shape surface. However, these systems have a low deposition rate. If somestructural changes in the PMSS cooling system will be introduced, the evaporation of the material can beobtained in addition to sputtering. The main task of structural changes is heat transfer reducing from the target(hot-target MSS). Not many materials allow carrying out this process due to their thermophysical characteristics.The simulative description of thermal processes occurring on the target is presented in this work; the dependenceof the evaporation on the target surface temperature is provided. The most suitable metals were selected toreach a high-intensity emission of atoms. For these materials the dependences of the emission rate and targetsurface temperature on the magnetron discharge power are presented. The simulation results were confirmed byexperiments.
言語:	英語
出版事項:	2016
主題:	электронный ресурс труды учёных ТПУ осаждение магнетронные распылительные системы механизмы
オンライン･アクセス:	http://ppt.fel.cvut.cz/articles/2016/ppt-abstracts-3v1n.pdf#page=19
フォーマット:	xMaterials 電子媒体図書の章
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=651859

類似資料

Features of self-sustained magnetron sputtering of evaporating metal target; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
出版事項: (2019)

Angular thickness distribution and target utilization for hot Ni target magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 160
著者:: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
出版事項: (2018)

Controlling the Properties of Metal Films Deposited Using Magnetron Sputtering Systems with Evaporative Targets; Surface Modification of Materials by Ion Beams (SMMIB-2019)
出版事項: (2019)

PLLA scaffold modification using magnetron sputtering of the copper target to provide antibacterial properties; Resource-Efficient Technologies; Vol. 3, iss. 2
出版事項: (2017)

Aluminum films deposition by magnetron sputtering systems: Influence of target state and pulsing unit; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 741 : Optoelectronics, Photonics, Engineering and Nanostructures (Saint Petersburg OPEN 2016)
出版事項: (2016)

Осаждение барьерных слоев на основе нитрида титана с помощью дуальной МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
著者:: Киселева Д. В.
出版事項: (2015)

Исследование особенностей режима самораспыления при работе магнетронных распылительных систем с испаряющимися металлическими мишенями; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине. Российский и международный опыт подготовки кадров
出版事項: (2020)

Fabrication and physico-mechanical properties of thin magnetron sputter deposited silver-containing hydroxyapatite films; Applied Surface Science; Vol. 360, pt. B
出版事項: (2015)

Hybrid biocomposites based on titania nanotubes and a hydroxyapatite coating deposited by RF-magnetron sputtering: Surface topography, structure, and mechanical properties; Applied Surface Science; Vol. 426
出版事項: (2017)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
出版事項: (Томск, 2016)

Осаждение металлических покрытий с помощью магнетронной распылительной системы с жидкофазной мишенью; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
著者:: Рогожников Д. С.
出版事項: (2016)

Влияние плотности мощности магнетронного диода на скорость осаждения и фазовый состав CrNX покрытий; Современные проблемы машиностроения
著者:: Грудинин В. А. Владислав Алексеевич
出版事項: (2021)

The properties of Cu films deposited by high rate magnetron sputtering from a liquid target; Vacuum; Vol. 169
出版事項: (2019)

Влияние самораспыления на скорости осаждения медных покрытий при работе магнетрона с испаряющейся мишенью; Перспективные материалы конструкционного и медицинского назначения
出版事項: (2018)

Energy and substance transfer in magnetron sputtering systems with liquid-phase target; Vacuum; Vol. 124
出版事項: (2016)

Анализ возможностей магнетронных распылительных систем для высокоскоростного осаждения функциональных покрытий; Современные технологии, экономика и образование
著者:: Блейхер Г. А. Галина Алексеевна
出版事項: (2020)

The role of thermal processes and target evaporation in formation of self-sputtering mode for copper magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 152
出版事項: (2018)

Hot target magnetron sputtering enhanced by RF-ICP source: Microstructure and functional properties of CrNx coatings; Vacuum; Vol. 200
出版事項: (2022)

Magnetron deposition of TCO films using ion beam; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 652 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2015)
著者:: Asainov O. Kh. Oleg Khaydarovich
出版事項: (2015)

Formation of titanium interlayer by vacuum arc deposition to increase the durability of titanium nitride coatings under thermal cycling conditions; Journal of Surface Investigation. X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques; Vol. 9, iss. 6
出版事項: (2015)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
出版事項: (Томск, 2016)

Нанесение электрохромных покрытий методом магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 2
著者:: Шпакова Н. Ю.
出版事項: (2011)

Hot target magnetron sputtering for ferromagnetic films deposition; Surface and Coatings Technology; Vol. 334
出版事項: (2018)

Несбалансированная магнетронная распылительная система с электромагнитной катушкой; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
著者:: Шпакова Н. Ю.
出版事項: (2009)

A Plasma System for Low-Emissive Coating Deposition; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
出版事項: (2004)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
出版事項: (Томск, 2018)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
出版事項: (Томск, [Б. и.], 2018)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
出版事項: (Томск, [Б. и.], 2016)

Магнетронная распылительная система с жидкофазным катодом; Ресурсоэффективным технологиям - энергию и энтузиазм молодых
著者:: Николаев М. В.
出版事項: (2015)

Исследование эксплуатационных характеристик твердооксидных топливных элементов с YSZ/CGO электролитом; Высокие технологии в современной науке и технике (ВТСНТ-2016)
著者:: Ромбаева М. Р.
出版事項: (2016)

Свойства тонких плёнок оксида титана (TiO[2]) и аморфного углерода (а-С), осаждённых с помощью дуальной магнетронной распылительной системы: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
出版事項: (Томск, [Б. и.], 2016)

Осаждение покрытий из хрома и никеля с помощью магнетронного диода с "горячей" мишенью: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 01.04.07
著者:: Сиделёв Д. В. Дмитрий Владимирович
出版事項: (Томск, [Б. и.], 2018)

Магнетронный диод на парах металлов; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
著者:: Жуков В. В.
出版事項: (2002)

Адгезионные свойства серебросодержащих гидроксиапатитовых покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
著者:: Ткачев М. С.
出版事項: (2016)

Микротекстура поверхности покрытий оксинитридов титана, осажденных методов реактивного магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 3
著者:: Мазурик Е. А.
出版事項: (2014)

Электропроводящие антифрикционные покрытия на основе системы CU-MO-S; Перспективные материалы с иерархической структурой для новых технологий и надежных конструкций
出版事項: (2016)

Плазменная технология осаждения отражающего покрытия на поверхность углепластика; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2
出版事項: (2011)

Исследование влияния свойств тигля на интенсивность эмиссии атомов с поверхности жидкометаллической мишени МРС; Перспективы развития фундаментальных наук
著者:: Валдаева С. В.
出版事項: (2012)

Устройство дугогашения для мощных магнетронных распылительных систем; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 1
著者:: Арсланов И. Р.
出版事項: (2002)

Травление углеродных покрытий в плазме водорода; Водород. Технологии. Будущее
出版事項: (2021)