Диффузия магния в кристаллах LiF в условиях радиационно-термического нагрева; Перспективные материалы; № 2

Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
Parent link:Перспективные материалы.— , 1995-
№ 2.— 2004.— [С. 77-82]
Άλλοι συγγραφείς: Суржиков А. П. Анатолий Петрович, Чернявский А. В. Александр Викторович, Гынгазов С. А. Сергей Анатольевич, Франгульян Т. С. Тамара Семёновна
Περίληψη:Заглавие с экрана
Представлены результаты исследований методом масс-спектрометрии вторичных ионов высокотемпературной диффузии гетеровалентного катиона магния в кристаллы LiF, осуществляемой из пленки фторида магния при интенсивном электронном облучении. Показано, что диффузионный отжиг, реализованный с помощью пучка ускоренных электронов, практически не влияет на диффузию ионов Mg в LiF во всем исследованном интервале температур 870-1073 К. Проведено сопоставление этих данных с ранее полученными результатами по стимулирующему действию радиации на диффузию магния из металлич. пленки в KBr. Показано, что установленные отличия в эффектах воздействия радиации на диффузионный процесс в кристаллах LiF и KBr, не поддаются интерпретации в рамках единого механизма диффузии примеси. Отсутствие эффекта радиационной стимуляции диффузии (РСД) в кристаллах LiF объяснено высокой исходной диффузионной активностью магния в области высоких температур и согласуется с выполненными оценками эффективности наиболее реальных механизмов РСД в щелочно-галоидных кристаллах. Предполагается, что из-за окисления металлич. магния при отжиге кристаллов KBr диффузионная активность примеси резко снижается, что позволило наблюдать позитивный эффект РСД.
Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса
Γλώσσα:Ρωσικά
Έκδοση: 2004
Θέματα:
Διαθέσιμο Online:http://elibrary.ru/item.asp?id=21260418
Μορφή: MixedMaterials Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=649221

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 649221
005 20250303133319.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\network\14382 
035 |a RU\TPU\network\14381 
090 |a 649221 
100 |a 20160624d2004 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
135 |a drcn ---uucaa 
181 0 |a i  
182 0 |a b 
200 1 |a Диффузия магния в кристаллах LiF в условиях радиационно-термического нагрева  |f А. П. Суржиков [и др.] 
203 |a Текст  |c электронный 
300 |a Заглавие с экрана 
320 |a [Библиогр.: с. 82 (12 назв.)] 
330 |a Представлены результаты исследований методом масс-спектрометрии вторичных ионов высокотемпературной диффузии гетеровалентного катиона магния в кристаллы LiF, осуществляемой из пленки фторида магния при интенсивном электронном облучении. Показано, что диффузионный отжиг, реализованный с помощью пучка ускоренных электронов, практически не влияет на диффузию ионов Mg в LiF во всем исследованном интервале температур 870-1073 К. Проведено сопоставление этих данных с ранее полученными результатами по стимулирующему действию радиации на диффузию магния из металлич. пленки в KBr. Показано, что установленные отличия в эффектах воздействия радиации на диффузионный процесс в кристаллах LiF и KBr, не поддаются интерпретации в рамках единого механизма диффузии примеси. Отсутствие эффекта радиационной стимуляции диффузии (РСД) в кристаллах LiF объяснено высокой исходной диффузионной активностью магния в области высоких температур и согласуется с выполненными оценками эффективности наиболее реальных механизмов РСД в щелочно-галоидных кристаллах. Предполагается, что из-за окисления металлич. магния при отжиге кристаллов KBr диффузионная активность примеси резко снижается, что позволило наблюдать позитивный эффект РСД. 
333 |a Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса 
461 |t Перспективные материалы  |d 1995- 
463 |t № 2  |v [С. 77-82]  |d 2004 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
610 1 |a магний 
610 1 |a диффузия 
610 1 |a литий фторид 
701 1 |a Суржиков  |b А. П.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1951-  |g Анатолий Петрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22010  |9 9307 
701 1 |a Чернявский  |b А. В.  |c специалист в области электроники  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1966-  |g Александр Викторович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26556  |9 12245 
701 1 |a Гынгазов  |b С. А.  |c специалист в области электроники  |c профессор Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1958-  |g Сергей Анатольевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26531  |9 12225 
701 1 |a Франгульян  |b Т. С.  |c специалист в области электроники, диэлектриков и полупроводников  |c ведущий научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1940-  |g Тамара Семёновна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26534  |9 12228 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160624  |g RCR 
856 4 |u http://elibrary.ru/item.asp?id=21260418 
942 |c CF