Диффузия магния в кристаллах LiF в условиях радиационно-термического нагрева
| Parent link: | Перспективные материалы.— , 1995- № 2.— 2004.— [С. 77-82] |
|---|---|
| Other Authors: | , , , |
| Summary: | Заглавие с экрана Представлены результаты исследований методом масс-спектрометрии вторичных ионов высокотемпературной диффузии гетеровалентного катиона магния в кристаллы LiF, осуществляемой из пленки фторида магния при интенсивном электронном облучении. Показано, что диффузионный отжиг, реализованный с помощью пучка ускоренных электронов, практически не влияет на диффузию ионов Mg в LiF во всем исследованном интервале температур 870-1073 К. Проведено сопоставление этих данных с ранее полученными результатами по стимулирующему действию радиации на диффузию магния из металлич. пленки в KBr. Показано, что установленные отличия в эффектах воздействия радиации на диффузионный процесс в кристаллах LiF и KBr, не поддаются интерпретации в рамках единого механизма диффузии примеси. Отсутствие эффекта радиационной стимуляции диффузии (РСД) в кристаллах LiF объяснено высокой исходной диффузионной активностью магния в области высоких температур и согласуется с выполненными оценками эффективности наиболее реальных механизмов РСД в щелочно-галоидных кристаллах. Предполагается, что из-за окисления металлич. магния при отжиге кристаллов KBr диффузионная активность примеси резко снижается, что позволило наблюдать позитивный эффект РСД. Режим доступа: по договору с организацией-держателем ресурса |
| Published: |
2004
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://elibrary.ru/item.asp?id=21260418 |
| Format: | Electronic Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=649221 |